Продукти
Керамічна підкладка з нітриду кремнію
- Інтегральні схеми (ІС);
- Силова електроніка;
- мікрохвильові та радіочастотні компоненти;
- MEMS (мікроелектромеханічні системи);
- Аерокосмічна та автомобільна промисловість.
Керамічна підкладка з нітриду кремнію — це спеціалізований матеріал, який широко використовується в різноманітних електронних і напівпровідникових додатках. Основним чином складається з нітриду кремнію (Si₃N₄), високоефективної кераміки з винятковими тепловими, механічними та електричними характеристиками, ці підкладки служать важливою платформою для монтажу та з’єднання електронних компонентів та інтегральних схем.
Властивості керамічної підкладки з нітриду кремнію
Теплопровідність
Керамічні підкладки з нітриду кремнію відомі своєю чудовою теплопровідністю, яка відіграє вирішальну роль у ефективному розсіюванні тепла. Ця властивість особливо вигідна в програмах, які вимагають точного керування температурою, включаючи потужні напівпровідникові пристрої та силову електроніку.
Механічна міцність
Нітрид кремнію демонструє вражаючу механічну міцність і пружність. Низький коефіцієнт теплового розширення дозволяє зберігати структурну цілісність у широкому діапазоні температур.
Електроізоляція
Однією з його основних властивостей є видатні електроізоляційні властивості, що робить його незамінним в електронних пристроях і схемах, які потребують електричної ізоляції.
Хімічна стійкість
Нітрид кремнію має високу стійкість до хімічної корозії, що робить його надійним вибором у середовищах, де вплив агресивних хімічних речовин викликає занепокоєння.
Діелектричні властивості
Сприятливі діелектричні властивості нітриду кремнію роблять його безцінним у мікроелектроніці. Він широко використовується у виробництві інтегральних схем і тонкоплівкових пристроїв, де точна електрична ізоляція є життєво важливою.
Паспорт матеріалу

Застосування керамічних підкладок з нітриду кремнію
Інтегральні схеми (ІС)
Підкладки з нітриду кремнію є основним матеріалом для виготовлення інтегральних схем, особливо для високочастотних і потужних додатків.
Силова електроніка
Вони необхідні в силових електронних пристроях, таких як біполярні транзистори з ізольованим затвором (IGBT) і потужні діоди для оптимізації теплового управління та електричної ізоляції.
Мікрохвильові та радіочастотні компоненти
Підкладки з нітриду кремнію мають вирішальне значення при розробці мікрохвильових і радіочастотних (РЧ) компонентів, включаючи фільтри, резонатори та компоненти антени.
MEMS (мікроелектромеханічні системи)
У пристроях MEMS часто використовуються підкладки з нітриду кремнію завдяки їх сумісності з процесами мікровиробництва та чудовим механічним властивостям.
Аерокосмічна та автомобільна промисловість
Керамічні компоненти з нітриду кремнію використовуються в умовах високої температури та високого навантаження в аерокосмічній та автомобільній промисловості, наприклад, турбокомпресори та вихлопні системи.
Металізація для керамічних підкладок із нітриду кремнію
1. Очищення та підготовка
Перед металізацією керамічна підкладка з нітриду кремнію проходить ретельний процес очищення для видалення забруднень і забезпечення хорошої адгезії металевого шару. Це часто включає очищення розчинниками, ультразвукове очищення та плазмову обробку.
2. Адгезійний шар
Для посилення адгезії між підкладкою з нітриду кремнію та металевим шаром зазвичай наноситься тонкий адгезійний шар. Звичайні матеріали адгезійного шару включають титан (Ti) або титан-вольфрам (TiW). Цей шар наноситься за допомогою таких методів, як напилення або хімічне осадження з парової фази (CVD).
3. Шар металізації
Потім поверх адгезійного шару наноситься первинний металевий шар. Звичайні метали, що використовуються для металізації, включають алюміній (Al), мідь (Cu), золото (Au) і срібло (Ag). Вибір металу залежить від конкретного застосування та вимог до електропровідності. Для осадження металевого шару використовуються такі методи, як напилення, випаровування, гальванічне покриття або хімічне осадження з парової фази (CVD).
4. Візерунок і травлення
Після осадження металу використовується процес фотолітографії для визначення конкретних візерунків або слідів на металевому шарі. Наноситься фоторезист, який піддається впливу ультрафіолетового світла через маску, а потім розвивається для створення малюнка. Хімічне травлення або плазмове травлення потім використовується для видалення небажаного металу, залишаючи бажані провідні шляхи.
5. Шар пасивації
Для захисту металізованої поверхні від факторів навколишнього середовища часто наноситься пасивуючий шар. Цей шар запобігає окисленню та корозії металевих слідів. Діоксид кремнію (SiO₂) або нітрид кремнію (Si₃N₄) є зазвичай використовуваними матеріалами для пасиваційних шарів.
6. Відпал
У деяких випадках для покращення адгезії та провідності металевого шару може бути виконаний процес відпалу. Відпал передбачає нагрівання підкладки до певної температури в контрольованій атмосфері.
7. Контроль якості
Процес металізації ретельно контролюється, щоб забезпечити відповідність товщини, адгезії та електричних властивостей металевого шару бажаним специфікаціям. Для контролю якості використовуються різні методи тестування, такі як вимірювання опору листів і мікроскопія.
Популярні Мітки: керамічна підкладка нітрид кремнію, Китай, постачальники, виробники, фабрика, опт, ціна, продаж







